La serie O combina un alto rendimiento con un pequeño tamaño de punto de rayos X. Esto es posible gracias al sistema de óptica de enfoque policapilar que reemplaza el conjunto de colimador instalado en los sistemas Bowman estándar. La óptica está diseñada para enfocar los rayos X que provienen de la ventana de salida del tubo a un tamaño de punto muy pequeño (80μm FWHM) mientras retiene virtualmente el 100% del flujo del tubo. Entonces, en lugar de atenuar los rayos X que no pueden pasar a través de las pequeñas aberturas, como es el caso de los sistemas de colimadores, el conjunto de óptica policapilar permite que casi todos los rayos X del tubo lleguen a la muestra. El resultado es una sensibilidad mucho mayor para probar componentes muy pequeños o recubrimientos delgados. Los tiempos de prueba más cortos pueden lograr una repetibilidad aún mejor al comparar sistemas ópticos con un colimador de tamaño similar.
La configuración estándar incluye la óptica de 80 μm, junto con un detector SDD de alta resolución que puede procesar las tasas de conteo más altas. La cámara tiene un aumento mayor en comparación con otros modelos como el Serie P, con un aumento de video 55x y un zoom digital 7x mayor. Una etapa de muestra XY programable también es estándar. El sistema óptico tiene una distancia focal muy cercana, por lo que las muestras de la serie O deben ser planas.
Ahora disponible con opción de etapa extendida
Rendimiento de la aplicación
ENEPIG | Níquel Electroless | ||||
---|---|---|---|---|---|
µm Au | µm Pd | µm Ni | µm NiP | μm% P | |
Promedio | 0.043 | 0.08 | 3.72 | 10.202 | 10.17 |
StdDev | 0.0005 | 0.0009 | 0.00010 | 0.1089 | 0.29 |
Autonomía | 0.0015 | 0.0030 | 0.040 | 0.3863 | 0.9900 |
% RSD | 1.05% | 1.13% | 0.03% | 1.07% | 2.85% |
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La serie XRF de O se adapta mejor a los clientes con estos requisitos:
- Piezas / características muy pequeñas como semiconductores, conectores o PCB
- Requisitos para probar muchas muestras o ubicaciones por nuevo lote de material
- Necesidad de medir revestimientos muy delgados (<100 nm)
- Tiempos de medición muy cortos (1-5 segundos)
- Garantizado para cumplir con IPC-4552, 4553A, 4554 y 4556
- ASTM B568 e ISO 3497
- El deseo de mejorar el rendimiento y la eficiencia de un XRF antiguo, ¡y obtener una generosa bonificación de intercambio!
Especificaciones del producto
Excitación de rayos X: | Objetivo W de 50 W con óptica capilar a 80 um FWHM a 17 KeV |
Detector: | Ventana grande Detector con deriva de silicio con resolución 190eV o mejor |
Número de análisis capas y elementos: |
Capas 5 (capas 4 + base) y elementos 10 en cada capa con análisis de composición de hasta elementos 30 simultáneamente |
Filtros / Colimadores: | Filtros primarios 4 |
Profundidad focal de salida: | Fijo en 0.1 ″ (2.54 mm) |
Procesamiento de pulso digital: | Analizador digital multicanal 4096 CH con tiempo de configuración flexible. Procesamiento de señal automático, incluyendo corrección de tiempo muerto y corrección de pico de escape. |
Computadora: | Intel CORE i5 de novena generación. procesador de escritorio, disco duro de estado sólido, 9 GB de RAM, equivalente a Microsoft Windows 16 Professional de 11 bits |
Óptica de la cámara: | Resolución VGA de 1/4 ″ (6 mm) CMOS-1280 × 720 |
Ampliación de video: | Micro de 55X con zoom digital de 7X |
Fuente de alimentación: | 150W, 100-240 voltios, con rango de frecuencia de 47Hz a 63Hz |
Ambiente de trabajo: | 68 ° F (20 ° C) a 77 ° F (25 ° C) y hasta 98% RH, sin condensación |
Peso: | 52-70kg |
XY programable: | Tamaño de la mesa: 330 mm (13 ″) x 381 mm (15 ″) | Recorrido: 127 mm (5 ″) x 152 mm (6 ″) Ahora disponible con opcional etapas extendidas o cámara cerrada |
Dimensiones internas: | Altura: 140 mm (5.5 ″), Ancho: 305 mm (12 ″), Profundidad: 330 mm (13 ″) |
Dimensiones externas: | Altura: 457 mm (18 ″), Ancho: 457 mm (18 ″), Profundidad: 610 mm (24 ″) |