Controlla un processo complesso con sicurezza
Le piastre devono controllare un processo complesso con molteplici variabili per ottenere parti placcate conformi a tutte le proprietà chimiche, fisiche e visive definite nelle specifiche delle parti. Una delle variabili più critiche è la concentrazione in continua evoluzione del metallo in soluzione, che si riduce nel tempo man mano che gli ioni disciolti si depositano sulla parte. È importante monitorare la concentrazione di questi ioni in soluzione poiché influisce direttamente sulla velocità di placcatura e sulla composizione del deposito.
Metodi tradizionali di misurazione dell'analita di placcatura la concentrazione include l'assorbimento atomico (AA) e il plasma accoppiato induttivamente (ICP). Si tratta di strumenti costosi e personale di laboratorio specializzato. Inoltre, entrambi richiedono la diluizione del bagno galvanico a basse concentrazioni per l'analisi, richiedendo ancora una volta personale di laboratorio esperto per ridurre al minimo gli errori. La titolazione è un'opzione per alcune soluzioni metalliche, ma è una tecnica che richiede tempo e presenta limiti in termini di precisione e applicazioni. A causa di questi fattori, molti applicatori dipendono da laboratori esterni per i test analitici. Ciò può essere costoso e creare ritardi in base al carico di lavoro e ai tempi di consegna del laboratorio.
XRF è un metodo veloce, facile e accurato per l'analisi dei metalli nelle soluzioni di placcatura direttamente e internamente, con il personale di produzione esistente. Basta estrarre un campione dal serbatoio di placcatura, riempire con il liquido una tazza della soluzione Bowman fornita, posizionare una pellicola di Mylar e un coperchio sulla parte superiore e posizionare la tazza nella camera XRF come qualsiasi altro campione. I risultati si ottengono in 60 secondi o meno. Le concentrazioni di metalli possono essere misurate fino a circa 100 ppm e spesso inferiori.
Leggi di seguito le prestazioni per l'analisi del bagno galvanico singolo o multielemento.
Accessori
Tutti gli 8 sistemi XRF della suite Bowman misurano la concentrazione di metalli nelle soluzioni. Il software Bowman consente ai proprietari di creare nuove applicazioni secondo necessità. Tutto ciò che serve per eseguire l'analisi della soluzione è il kit della tazza per soluzione Bowman, illustrato a destra.
Presentare un volume consistente di liquido e raccogliere un segnale forte dal campione sono fondamentali per ottenere risultati accurati. Queste tazze appositamente progettate soddisfano entrambi i requisiti. Una piastra in molibdeno forma il fondo della tazza, riducendo la diffusione dello sfondo dovuta alle proprietà della matrice luminosa della soluzione e fornendo uno spettro pulito per un'elaborazione accurata. Un serbatoio di troppopieno raccoglie l'eventuale liquido in eccesso espulso dal posizionamento della pellicola Mylar sul liquido e garantisce che il serbatoio di analisi sia sempre pieno. Sono necessarie solo poche gocce di soluzione. La tazza in Teflon chimicamente resistente e la pellicola in Mylar assicurano che anche le soluzioni galvaniche più aggressive siano contenute in modo sicuro.
I sistemi Bowman XRF misurano tutte e 3 le metriche critiche che sono fondamentali per una placcatura coerente e di alta qualità: concentrazione della soluzione di placcatura, spessore del deposito e composizione del campione. Bowman è il leader negli strumenti per l'analisi della placcatura XRF, nonché nei prodotti ausiliari come gli standard di riferimento e i kit di analisi delle soluzioni illustrati in questo breve video.
Tazza per soluzione Bowman con pellicola Mylar. Basta pipettare alcune gocce nel serbatoio centrale, posizionare una pellicola di Mylar sul liquido e chiudere la parte superiore. Un serbatoio di troppopieno e una tazza resistente agli agenti chimici eliminano qualsiasi preoccupazione relativa alla fuoriuscita del campione o al danneggiamento dello strumento XRF.
Analisi della soluzione a elemento singolo: dati prestazionali tipici
Nuova analisi della soluzione multi-elemento
Il nuovo software di analisi della soluzione multielemento sviluppato da Bowman consente agli utenti di misurare più di un elemento o analita contemporaneamente, tenendo conto dell'effetto matrice e delle impurità nel bagno. L'effetto matrice si riferisce all'influenza o all'interferenza di altri componenti presenti nella soluzione analizzata. La soluzione del bagno galvanico non è una costante. Una volta aggiunti i componenti corretti, il processo di placcatura stesso modifica la composizione della soluzione, il livello di contaminazione e, in alcuni casi, l'acidità.
Leggi il Bollettino applicativo n. 16 – Analisi di soluzioni multi-elemento per saperne di più su questa tecnica e sui risultati di due diversi studi.
Conclusione
I sistemi Bowman XRF sono strumenti analitici versatili per misurare la concentrazione della soluzione del bagno galvanico, insieme allo spessore del deposito galvanico e alla composizione del campione. I ridotti costi di tempo, personale e strumentazione richiesti da altri metodi rendono Bowman XRF un'eccellente alternativa. Chiama il nostro team tecnico per ulteriori informazioni.
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